中析研究所檢測中心
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中科光析科學(xué)技術(shù)研究所
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發(fā)布時(shí)間:2025-09-03
關(guān)鍵詞:微觀組織三維重構(gòu)FIB分析測試機(jī)構(gòu),微觀組織三維重構(gòu)FIB分析測試周期,微觀組織三維重構(gòu)FIB分析測試儀器
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來源:北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所
因業(yè)務(wù)調(diào)整,部分個(gè)人測試暫不接受委托,望見諒。
三維結(jié)構(gòu)重構(gòu):通過序列切片和成像重建材料三維模型,具體檢測參數(shù)包括體素分辨率、切片厚度和重建精度。
晶體取向分析:確定晶粒的晶體學(xué)取向,具體檢測參數(shù)包括歐拉角、極圖和取向分布函數(shù)。
成分分布映射:分析元素或相的空間分布,具體檢測參數(shù)包括能譜分辨率、元素濃度和分布均勻性。
缺陷表征:識(shí)別空位、位錯(cuò)等微觀缺陷,具體檢測參數(shù)包括缺陷密度、尺寸和類型分類。
界面分析:研究相界或晶界特性,具體檢測參數(shù)包括界面能、界面寬度和化學(xué)成分梯度。
孔隙率測量:量化材料內(nèi)部孔隙,具體檢測參數(shù)包括孔隙體積分?jǐn)?shù)、孔徑分布和連通性。
顆粒尺寸統(tǒng)計(jì):分析顆粒或晶粒的大小分布,具體檢測參數(shù)包括平均直徑、尺寸偏差和形狀因子。
相體積分?jǐn)?shù)計(jì)算:測定不同相的相對(duì)含量,具體檢測參數(shù)包括相圖積分、面積分?jǐn)?shù)和誤差分析。
應(yīng)變場分析:評(píng)估內(nèi)部應(yīng)變分布,具體檢測參數(shù)包括應(yīng)變張量、最大應(yīng)變值和局部變形。
表面形貌測量:獲取三維表面粗糙度,具體檢測參數(shù)包括算術(shù)平均高度、均方根偏差和峰谷高度。
腐蝕行為研究:分析腐蝕微觀機(jī)制,具體檢測參數(shù)包括腐蝕深度、產(chǎn)物分布和速率計(jì)算。
裂紋擴(kuò)展模擬:基于三維數(shù)據(jù)模擬裂紋行為,具體檢測參數(shù)包括應(yīng)力強(qiáng)度因子、擴(kuò)展路徑和速度。
半導(dǎo)體材料:硅、鍺等用于器件故障分析和性能優(yōu)化。
金屬合金:鋼、鋁合金等用于微觀結(jié)構(gòu)演變和機(jī)械性能研究。
陶瓷材料:氧化鋁、碳化硅等用于脆性斷裂和相變分析。
復(fù)合材料:碳纖維增強(qiáng)聚合物等用于界面結(jié)合和損傷評(píng)估。
生物材料:骨骼、植入物等用于生物相容性和降解行為研究。
納米材料:納米顆粒、薄膜等用于尺寸效應(yīng)和表面特性分析。
地質(zhì)樣品:巖石、礦物等用于地質(zhì)過程微觀機(jī)制探索。
電子器件:集成電路等用于互連失效和可靠性測試。
能源材料:電池電極等用于電化學(xué)性能與結(jié)構(gòu)關(guān)聯(lián)分析。
聚合物材料:塑料、橡膠等用于相分離和老化行為研究。
涂層系統(tǒng):防護(hù)涂層等用于附著力和耐久性評(píng)估。
磁性材料:永磁體等用于疇結(jié)構(gòu)和性能優(yōu)化。
ASTM E112 金屬平均晶粒度測定標(biāo)準(zhǔn)
ISO 13322 顆粒尺寸分析通過成像方法
GB/T 6394 金屬平均晶粒度測定方法
ASTM E384 材料顯微硬度測試標(biāo)準(zhǔn)
ISO 25178 表面形貌三維測量規(guī)范
GB/T 13298 金屬顯微組織檢驗(yàn)方法
ASTM E1508 能譜分析標(biāo)準(zhǔn)指南
ISO 16700 掃描電子顯微鏡性能表征
GB/T 18876 材料三維顯微分析通用規(guī)則
ASTM F1372 離子束加工標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
聚焦離子束顯微鏡:用于樣品制備和序列成像,功能包括精密 milling 和 high-resolution imaging。
掃描電子顯微鏡:提供高分辨率表面成像,功能包括 secondary electron detection 和 backscattered electron imaging。
能譜儀:進(jìn)行元素成分分析,功能包括 X-ray spectroscopy 和 quantitative mapping。
電子背散射衍射系統(tǒng):分析晶體取向和結(jié)構(gòu),功能包括 diffraction pattern indexing 和 grain boundary characterization。
三維重構(gòu)軟件:處理成像數(shù)據(jù)并重建三維模型,功能包括 volume rendering 和 quantitative measurement。
離子束沉積系統(tǒng):用于樣品修復(fù)或涂層,功能包括 material deposition 和 contamination control。
高分辨率相機(jī):捕獲微觀圖像,功能包括 low-noise imaging 和 rapid data acquisition。
1、咨詢:提品資料(說明書、規(guī)格書等)
2、確認(rèn)檢測用途及項(xiàng)目要求
3、填寫檢測申請(qǐng)表(含公司信息及產(chǎn)品必要信息)
4、按要求寄送樣品(部分可上門取樣/檢測)
5、收到樣品,安排費(fèi)用后進(jìn)行樣品檢測
6、檢測出相關(guān)數(shù)據(jù),編寫報(bào)告草件,確認(rèn)信息是否無誤
7、確認(rèn)完畢后出具報(bào)告正式件
8、寄送報(bào)告原件