中析研究所檢測中心
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中科光析科學(xué)技術(shù)研究所
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發(fā)布時(shí)間:2025-09-04
關(guān)鍵詞:電鏡形貌測試方法,電鏡形貌測試標(biāo)準(zhǔn),電鏡形貌測試案例
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來源:北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所
因業(yè)務(wù)調(diào)整,部分個(gè)人測試暫不接受委托,望見諒。
表面形貌分析:觀察樣品表面微觀結(jié)構(gòu),具體檢測參數(shù)包括粗糙度Ra值、峰谷高度Rz值。
顆粒尺寸分布:測量顆粒的平均直徑和分布范圍,具體檢測參數(shù)包括D50中值粒徑、D90百分位粒徑。
孔隙率評(píng)估:計(jì)算材料中孔隙的體積百分比,具體檢測參數(shù)包括孔隙直徑、孔隙密度。
晶體取向分析:通過電子背散射衍射確定晶體結(jié)構(gòu),具體檢測參數(shù)包括晶粒取向角、織構(gòu)系數(shù)。
層厚測量:測量薄膜或涂層的厚度,具體檢測參數(shù)包括平均厚度、厚度均勻性偏差。
缺陷檢測:識(shí)別表面裂紋、劃痕等缺陷,具體檢測參數(shù)包括缺陷尺寸、缺陷密度。
形貌對(duì)比度:分析不同區(qū)域的形貌差異,具體檢測參數(shù)包括對(duì)比度比率、灰度值分布。
三維重建:從二維圖像重建三維形貌,具體檢測參數(shù)包括三維分辨率、體積計(jì)算精度。
元素分布映射:結(jié)合能譜分析元素分布,具體檢測參數(shù)包括元素濃度、分布均勻性。
界面分析:研究不同材料界面的形貌,具體檢測參數(shù)包括界面寬度、結(jié)合強(qiáng)度指標(biāo)。
半導(dǎo)體器件:分析集成電路的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷。
金屬材料:研究合金的晶界分布和相組成。
陶瓷材料:評(píng)估燒結(jié)后的孔隙率和裂紋形態(tài)。
聚合物:觀察分子鏈排列和表面形貌特征。
生物樣品:分析細(xì)胞和組織的超微結(jié)構(gòu)。
納米材料:碳納米管和石墨烯的形貌表征。
涂層和薄膜:厚度測量和均勻性評(píng)估。
復(fù)合材料:界面結(jié)合情況和纖維分布分析。
地質(zhì)樣品:礦物顆粒的形貌和結(jié)構(gòu)研究。
forensic 樣品:纖維和痕跡的微觀形貌分析。
ASTM E1508:掃描電子顯微鏡定量分析標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐。
ISO 16700:微束分析掃描電子顯微鏡校準(zhǔn)指南。
GB/T 17359:電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法通則。
ASTM E2090:掃描電子顯微鏡性能驗(yàn)證標(biāo)準(zhǔn)。
ISO 10936:光學(xué)和電子顯微鏡術(shù)語標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T 23414:微束分析電子背散射衍射分析方法。
ASTM F1372:半導(dǎo)體器件表面形貌檢測標(biāo)準(zhǔn)。
ISO 14966:顆粒形貌分析的一般原則。
GB/T 30067:透射電子顯微鏡分析方法。
ASTM E766:掃描電子顯微鏡放大率校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。
掃描電子顯微鏡:提供高分辨率表面形貌圖像,功能包括二次電子成像和背散射電子成像。
透射電子顯微鏡:用于內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析,功能包括高分辨率成像和電子衍射模式。
能譜儀:與電子顯微鏡結(jié)合進(jìn)行元素分析,功能包括元素定性和定量測量。
電子背散射衍射系統(tǒng):用于晶體取向和晶粒分析,功能包括取向成像和相鑒定。
聚焦離子束顯微鏡:用于樣品制備和三維分析,功能包括 milling 和沉積操作。
1、咨詢:提品資料(說明書、規(guī)格書等)
2、確認(rèn)檢測用途及項(xiàng)目要求
3、填寫檢測申請(qǐng)表(含公司信息及產(chǎn)品必要信息)
4、按要求寄送樣品(部分可上門取樣/檢測)
5、收到樣品,安排費(fèi)用后進(jìn)行樣品檢測
6、檢測出相關(guān)數(shù)據(jù),編寫報(bào)告草件,確認(rèn)信息是否無誤
7、確認(rèn)完畢后出具報(bào)告正式件
8、寄送報(bào)告原件